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最新产品 > 样品处理设备 > 清洗/消毒设备 > 紫外臭氧清洗>深圳慧烁 WJUVO110NS 紫外臭氧清洁

更新时间:2024-12-22 16:50:43 点击:432次

产品型号 WJUVO110NS
参考报价 返回顶部 面议
基本规格
产品类型 返回顶部 紫外臭氧清洗
品牌 返回顶部 慧烁
产地 返回顶部 中国大陆
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技术参数
清洗尺寸/工作面积 返回顶部 1200 x 500mm
电源 返回顶部 220/380V, 50/60Hz
仪器功率 返回顶部 110W x 10 只灯
其他信息
产品简介

紫外臭氧清洗技术是一种干式清洗,不需要任何的溶剂,是非常高效的精密清洗方式。同时对清洗表面没有损伤。紫外臭氧清洗技术作为硅片清洗,TFT玻璃基等清洗应用,或是表面改性的一种非常重要的技术。。

 
紫外臭氧清洗在室温下进行,非常容易操作。另外,维护成本低。他可以非常有效低清除低密度污染物,从而获得超级洁净的表面。比较现有的空气压等离子或是准分子灯,他非常容易扩展,成本低。不仅仅适用小型元件,也可以适合超过1800mm的大型元件。
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技术创新 1. 薄膜沉积前的基体清洗 2. 清洗硅片,透镜,镜面,太阳能面板 3. 清洗助焊剂型混合电路和平板LCD 4. 蚀刻TEFLON,或其他的有机材料 5. 改善塑料表面涂料的粘接性能 6. 玻璃表面的亲水处理和改性 7. 金属表面的亲水处理和改性 8. 去除硅片UV胶带,UV油墨,光刻胶 9. 氧化退火和改性或产生氧化层
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