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最新产品 > 样品处理设备 > 清洗/消毒设备 > 紫外臭氧清洗>在线式紫外辐射光清洗机

更新时间:2024-12-25 10:25:57 点击:286次

产品型号
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基本规格
产品类型 返回顶部 紫外臭氧清洗
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技术参数
其他信息
产品简介

在光电显示领域,其液晶品种从TN→STN→TFT的逐步升级;从黑白到彩色,从低分辨率向高分辨率,从小屏幕到大屏幕的发展已成为必然趋势。原有的超声、化学清洗已不能满足当前清洗洁净度要求。
基 本原理与传统的清洗技术如化学法、物理法(例超声波)不同,与新近发展的等离子体清洗、激光清洗等也有较大不同。主要是应用光化学原理与技术,技术关键在 于特种大功率短波紫外、真空紫外光源。其原理为利用光子能量将有机物的高分子链、大分子链,断裂成小分子、原子、自由基等;及将空气中的氧分子变成臭氧 O3。O3再经光子的作用产生激态氧原子O*,O*将断裂后的有机物质强氧化变成CO, CO2,H2O等挥发,随排气并排出,不留任何痕迹,属干式法,无接触型;常温、常气压下无损伤,不使用任何化学药品,环保无二次污染;对物体表面的最难 清洗的油脂及有机污染物有特殊清洗效果。
大功率特种专用紫外光源是其中的关键技术,其波长已延伸到真空紫外波段.我公司经几年攻关已完成多项专利技术,如:真空紫外光谱仪,大功率热、冷阴极光清洗机专用光源,清洗效果测试设备等。
我公司的光清洗机系列产品,主要创新点是:宽温区恒照度、大功率紫外光源、优化气氛控制的自控系统、自动化程度高、自净化设计等。具有,工作稳定,利用光子作用实现了对污染物的分解、氧化、气化,并被排除.
本 产品除用于液晶生产中需清洗的各道工序外,还有十分广泛的领域如:ITO玻璃、光学玻璃、铬板、掩膜板、抛光石英晶体、硅晶片和带有氧化膜的金属等进行精 密清洗处理,在液晶显示器件、半导体硅晶片、集成电路、高精度印制电路板、光学器件、石英晶体、密封技术、带氧化膜的金属材料等领域。

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