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更新时间:2024-12-19 02:22:24 点击:500次
产品型号 | ULTRA | ||||||||||||||||||
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参考报价 | 返回顶部 面议 | ||||||||||||||||||
基本规格 | |||||||||||||||||||
产品类型 | 返回顶部 扫描电镜 | ||||||||||||||||||
品牌 | 返回顶部 蔡司光学 | ||||||||||||||||||
产地 | 返回顶部 德国 | ||||||||||||||||||
返回顶部 我来纠错(有奖) | |||||||||||||||||||
技术参数 | |||||||||||||||||||
分辨率 | 返回顶部 1.0 nm @ 15 kV 1.7 nm @ 1 kV 4.0 nm @ 0.1 kV | ||||||||||||||||||
放大倍数 | 返回顶部 12 - 900,000x | ||||||||||||||||||
加速电压 | 返回顶部 0.1 - 30 kV | ||||||||||||||||||
其他信息 | |||||||||||||||||||
产品简介 |
仪器简介: 在SUPRA™场发射扫描电子显微镜基础上发展起来的ULTRA 场发射扫描电子显微镜是用于纳米结构分析的电子束成像仪器中的佼佼者,它接收效率高、可以超高分辨率成像。最新开发的能量选择式背散射电子探测器(EsB)和角度选择式背散射电子探测器(AsB)则代表了著名的GEMINI®技术的最新发展。
ULTRA 55SE 成像与测量工作站
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应用文章 | 返回顶部 此仪器尚未有相关文章 | ||||||||||||||||||
产品样本 | 此仪器尚未有相关样本 返回顶部 | ||||||||||||||||||
应用范围 | 返回顶部此仪器尚未有相关应用 | ||||||||||||||||||
用户数 | 返回顶部 此仪器尚未有用户数 | ||||||||||||||||||
技术创新 | ULTRA——最佳的成像工具 看得更多——超高分辨率的SE与BSE同步成像 看得更清——精确的最佳成像能力 看得更细——纳米尺度上进行组分分析的利器 简便易用——全面集成的镜筒内置式背散射电子探测器(EsB)和二次电子探测器(In-lens detector) 远离荷电——Ultra plus中安装有荷电补偿器,实现了不导电样品的清晰、精确成像 返回顶部 | ||||||||||||||||||
最新动态 | 返回顶部 此仪器尚未有最新动态 | ||||||||||||||||||
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网友评分 |
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