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最新产品 > 化学分析仪器 > X射线仪器 > X射线能谱仪>日本ULVAC-PHI X 射线光电子能谱...
更新时间：2024-12-15 03:54:23 点击：4102次
| 产品型号 | PHI-5000 Versaprobe II (VP-II) |
|---|---|
| 参考报价 | 返回顶部 面议 |
| 基本规格 | |
| 产品类型 | 返回顶部 X射线能谱仪 |
| 品牌 | 返回顶部 日本Ulvac-Phi |
| 产地 | 返回顶部 日本 |
| 返回顶部 我来纠错（有奖） | |
| 技术参数 | |
| 其他信息 | |
| 产品简介 |
仪器简介： PHI-5000 Versaprobe II (VP-II) X 射线光电子能谱仪(XPS) 能 提供高性能的微区光谱，化学成像，二次电子成像，其最小的X射线束光栅扫描直径约为10微米。X射线束的大小可以轻易的使用电脑控制在直径10微米到 400微米设定，从而达到最好的空间解释度与最高的灵敏度。VP-II 可以轻易的对不管是导体或非导体获取化学态的成像或是离子溅射的深度分析，样品例子如催化剂，金属和电子设备，玻璃和聚合物，甚至是生物材料和组织等等。 VP-II 维持了PHI 5000 Versaprobe的核心能力，包括扫描和聚焦 X 射线，专利的离子与电子双中和系统，以及可以在极低电压也可工作的高效能离子枪；另有可选项配置C60离子枪，提供了许多有机材料独特而强大的溅射深度剖 析能力；另外，一个完全自动化的五轴样品操盘促进多个样品的自动分析并提供Zalar旋转“ZalarRotationTM”的能力，可配合氩气离子束或 可选项配置的C60来进行溅射深度剖析。最后，全新的操作界面SMARTSOFT-XPS，提供多技术仪器控制一个易于使用的平台。在数据解释和操纵总结 中，对VP-II 的性能有着明显的提高。X 射线光电子能谱仪(XPS)应用范围：
包括表面的元素与化学态分析(氢和氦除外)：
表面物种的化学状态的识别，包括有机和无机材料，导体和绝缘体。
深入薄膜中的组成元素分布概况，包括半导体、薄膜结构，磁介质薄膜，光学镀膜，装饰涂料和耐磨涂层。
在必须避免会对电子束技术有破坏性效果时的样品成分分析。
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| 应用范围 | 返回顶部此仪器尚未有相关应用 |
| 用户数 | 返回顶部 此仪器尚未有用户数 |
| 技术创新 | 最小的X射线束：X射线源的产生，是经由使用一个聚焦的电子束扫描在铝阳极时，此产生的扫描X射线后再经由一石英晶体的单色器聚焦并反射样品表面。VP-II 所取得的最小X-ray探头尺寸是10um，当中完全不需要使用有任何风格的孔径，就可以以计算机控制X射线的大小。 精准的样品分析区域：以类似SEM功能的SXI 图像, 可以实时的显示样品的表面形貌。用户可以很方便地航SXI图像，然后很容易地以选择分析来定义分析的区域。即使在正常的照片图像中看不见的特征，从SXI 图像就或许可以很容易地被发现和定位。 最高的灵敏度与最小的X-ray束斑：PHI VersaProbe II X 射线光电子能谱仪(XPS)是由获得专利的高通量X射线源来提供一个聚焦的X射线束，可根据样品表面扫描。 返回顶部 |
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