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最新产品 > 样品处理设备 > 泵装置 > 真空泵 > 干泵> Adixen 多工艺复合式干泵 ADP...
更新时间：2024-12-13 11:17:45 点击：413次
| 产品型号 | ADP/ADS系列 |
|---|---|
| 参考报价 | 返回顶部 面议 |
| 基本规格 | |
| 产品类型 | 返回顶部 干泵 |
| 品牌 | 返回顶部 Adixen |
| 产地 | 返回顶部 法国 |
| 返回顶部 我来纠错（有奖） | |
| 技术参数 | |
| 其他信息 | |
| 产品简介 |
|
| 应用文章 | 返回顶部 此仪器尚未有相关文章 |
| 产品样本 | 此仪器尚未有相关样本 返回顶部 |
| 应用范围 | 返回顶部此仪器尚未有相关应用 |
| 用户数 | 返回顶部 此仪器尚未有用户数 |
| 技术创新 | 处理能力可靠性高 ·宽交叉槽可容纳大量粉尘和颗粒 ·精确而闭合的温控系统、高操作温度以及从进口到出口的气体温度的线性增长 ·各级采取立式抽吸防止吹扫腔中粉尘聚集 主要应用于半导体制造 ·小巧：ADP/ADS系列2只有约390 mm宽 ·洁净：阿尔卡特真空泵无摩擦无须油润滑，也就无粉尘污染的风险。 ·安静：阿尔卡特真空泵所有型号均含一台静音装置，无须再安装外部消声装置。 ·兼容半导体S2 价廉物美 ·工作压强以及极限压强下低能耗 ·ADP/ADS系列2运行温低，用水量非常小。 ·用户可轻松设定氮净化水平，应用于清洁环境无须净化。 典型应用工艺： ·ADP 122 LM, ADS 602 LM 真空进片室，传送室，物理气相沉淀，镀膜 ·ADP 122 P, ADS 602 P, ADS 1202 P, ADS 1802 P 灰化，玻璃拆封，电介质，线蚀刻，注入源，介质化学气相沉淀 ·ADS 602 H, ADS 1202 H, ADS 1802 H 等离子增强化学气相淀积，低压化学气相沉淀 返回顶部 |
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