仪器简介：

     • 为XRF制作熔融玻片样品
     • 为AA和ICP制备样品溶液
     • 过氧化钠熔融
真正的全自动熔样——加入样品，启动程序后不管——保证全部熔融条件都可重复！

         X射线荧光分析对于粉末样品，目前采用直接压片法制备试样较为普遍，但由于粒度、矿物、偏析等效应的影响，势必带来分析误差，降低元素分析的精密度与准确度，样品制备已经成为一个主要的误差因素。玻璃熔融法制成的试样能消除试样的粒度、矿物、偏析等效应，同时也可降低样品元素间的吸收和增强效应，会明显提高分析的精度和准确度。对于ICP、AA和湿法化学分析手段，对于难溶样品，熔融方法同样是一种非常完美的制样手段。

技术参数：

控温范围:       300～1600°C
                       (因为专利的氧气接入设计，从而确保熔融温度最高可达1600°C，特殊设计的燃烧头，可在高达1600以上的温度调节下操作，任何难熔样品可轻易熔融）；
熔样量：        每批最多可同时处理6个样品，可连续熔样，每小时最多可处理30－42个样品；
熔样时间：  处理一批样品典型时间约为5－11分钟（如：预熔1分钟，旋转熔融8 分钟，均衡1分钟）；
功能控制:       自动编程序逻辑控制器（PLC）能通过“单键”程序选择完成7项编程(如镍，铁，锰，铬等)，可选择旋转速度。
支架:                采用耐高温合金；

PHOENIX 5000 : 10 个燃烧头 – 熔融5 个样品/批

尺寸:
Phoenix 2000-6000/VFD:
高 310 mm × 深 630 mm × 宽 880 mm   重量：75 - 90 kg
电源:110 或 240 VAC 50/60 Hz
功率: 720 Watts

灵活的程序设置：
         每个程序包括4个不同步骤，预熔(氧化)，熔融，混合/旋转熔融，冷却控制；
整个操控通过一组按键和一个真空荧光显示屏(蓝绿色)，每个程序可以通过按键轻松导出,屏幕会显示每个单独熔融阶段的状态。

灵活的熔融参数：
         通过控制器可对所有熔融参数方便地进行设置:
    预熔温度和时间，
    熔化温度和时间，
        摇摆/混合速度和频率，
        模具(铸造盘)预热温度和时间，
        铸造前暂停，
        铸造角度,速度和时间，
        预冷时间和空气流速，
        冷却时间和空气流速。

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