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最新产品 > 样品处理设备 > 制样/消解装置 > 其他制样/消解装置>英国牛津 PlasmaPro 100 Sapphire
更新时间:2024-12-17 16:29:15 点击:3329次
产品型号 | PlasmaPro 100 Sapphire |
---|---|
参考报价 | 返回顶部 面议 |
基本规格 | |
产品类型 | 返回顶部 其他制样/消解装置 |
品牌 | 返回顶部 牛津仪器 |
产地 | 返回顶部 英国 |
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技术参数 | |
其他信息 | |
产品简介 | 返回顶部 |
应用文章 | 返回顶部 此仪器尚未有相关文章 |
产品样本 | 此仪器尚未有相关样本 返回顶部 |
应用范围 | 返回顶部此仪器尚未有相关应用 |
用户数 | 返回顶部 此仪器尚未有用户数 |
技术创新 | 最新的单晶片刻蚀技术- PlasmaPro 100 Sapphire。牛津仪器致力于固态照明的技术革新,凭着在HBLED相关材料方面经验丰富,设备使用成本控制和符合产量要求的同时,我们的新技术还可以最大化地提高客户的产品良率。?针对HBLED苟刻的化学环境要求,PlasmaPro 100 Sapphire具有特殊的设计,可以在直径为200mm的晶片上进行快速和均匀的刻蚀。牛津仪器一直努力地为客户提供创新的、有效控制成本和可靠的工艺方案。这个最新设计的设备满足了所有的要求。主要特点和优势包括:具有独家的静电吸盘技术,能固定蓝宝石,和生长蓝宝石或硅上的氮化镓;高功率的ICP能生产出高密度的等离子体;磁隔离区可提高离子控制和均匀性;高电导泵水系统可以在低压下最大化地运送气体。 返回顶部 |
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