上海伯东美国 KRi 大口径射频离子源 RFICP 380-益择网-专业的仪器网上选购商城

大口径射频离子源 RFICP 380
上海伯东美国 KRi 大口径射频离子源 RFICP 380, 3层栅极设计, 栅极口径 38cm, 提供离子动能 100-1200eV 宽束离子束, 最大离子束流 > 1000mA, 满足 300 mm (12英寸)晶圆应用. 广泛应用于离子束刻蚀机.

KRi 射频离子源 RFICP 380 特性
1. 放电腔 Discharge Chamber, 无需电离灯丝, 通过射频技术提供高密度离子, 工艺时间更长. 2kW & 1.8 MHz, 射频自动匹配
2. 离子源结构模块化设计
3. 离子光学, 自对准技术, 准直光束设计, 自动调节技术保障栅极的使用寿命和可重复的工艺运行
4. 全自动控制器
5. 离子束动能 100-1200eV
6. 栅极口径 38cm, 满足 300 mm (12英寸)晶圆应用
射频离子源 RFICP 380

射频离子源 RFICP 380 技术规格:

阳极	电感耦合等离子体 2kW & 1.8 MHz 射频自动匹配
最大阳极功率	>1kW
最大离子束流	> 1000mA
电压范围	100-1500V
离子束动能	100-1200eV
气体	Ar, O2, N2,其他
流量	5-50sccm
压力	< 0.5mTorr
离子光学, 自对准	OptiBeamTM
离子束栅极	38cm Φ
栅极材质	钼
离子束流形状	平行,聚焦,散射
中和器	LFN 2000
高度	38.1 cm
直径	58.2 cm
锁紧安装法兰	12”CF

射频离子源 RFICP 380 基本尺寸:
射频离子源 RFICP 380

上海伯东美国考夫曼 KRI 大口径射频离子源 RFICP 220, RFICP 380 成功应用于 12英寸和 8英寸磁存储器刻蚀机, 8英寸量产型金属刻蚀机中, 实现 8英寸 IC 制造中的 Al, W 刻蚀工艺, 适用于 IC, 微电子,光电子, MEMS 等领域.

作为蚀刻机的核心部件, KRI 射频离子源提供大尺寸, 高能量, 低浓度的离子束, 接受客户定制, 单次工艺时间更长, 满足各种材料刻蚀需求!
射频离子源 RFICP 380

若您需要进一步的了解详细信息或讨论, 请参考以下联络方式:

上海伯东: 罗先生                               台湾伯东: 王女士
T: +86-21-5046-1322                 T: +886-3-567-9508 ext 161
F: +86-21-5046-1490                        F: +886-3-567-0049
M: +86 152-0195-1076                   M: +886-939-653-958
www.hakuto-china.cn                    www.hakuto-vacuum.com.tw

分享到：

上海伯东美国 KRi 大口径射频离子源 RFICP 380

更多促销产品

更多最新产品