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最新产品 > 物理分析仪器 > 其他物理分析仪器 > 白光干涉测厚仪>K-MAC 薄膜测厚仪 ST4000-DLX
更新时间：2024-12-19 08:14:37 点击：419次
| 产品型号 | ST4000-DLX |
|---|---|
| 参考报价 | 返回顶部 面议 |
| 基本规格 | |
| 产品类型 | 返回顶部 白光干涉测厚仪 |
| 品牌 | 返回顶部 K-MAC |
| 产地 | 返回顶部 韩国 |
| 返回顶部 我来纠错（有奖） | |
| 技术参数 | |
| 应用领域 | 返回顶部 半导体、介质材料、平板行业、光学涂层等 |
| 测试厚度范围 | 返回顶部 100Å~ 35㎛ |
| 测量速度 | 返回顶部 1~2 sec./site |
| 样品尺寸 | 返回顶部 ≤ 8 |
| 光斑尺寸 | 返回顶部 40㎛/20㎛, 4㎛(option) |
| 仪器重量 | 返回顶部 45Kg |
| 仪器尺寸 | 返回顶部 500 x 610 x 640 mm |
| 其他信息 | |
| 产品简介 |
仪器简介： 标准模式 工业规格 适合科研中心 技术参数： 测量方法：非接触式 测量原理：反射计 类型：手动的 测量样本大小： ≤ 8", 12" 活动范围：200mm x 200mm(8"), 300mm x 300mm(12") 测量范围：100Å~ 35㎛(Depends on Film Type) 光斑尺寸：40㎛/20㎛, 4㎛(option) 测量速度：1~2 sec./site 焦点： Coaxial Coarse and Fine Focus Controls 附带照明：12v 100W Tungsten-Halogen Lamp 尺寸： 500 x 610 x 640 mm 重量：45Kg 可选项目： Programmable Auto Z Stage 参考样品(K-MAC or KRISS or NIST) CCD摄像头 透射模块 应用领域： 半导体：Poly-Si, GaAs, GaN, InP, ZnS + Si, Ge, SiGe... 介质材料：SiO2, TiO2, TaO5, ITO, ZrO2, Si3N4, Photoresist, ARC,... 平板行业：(包括 LCD, PDP, OLED, ): a-Si, n+-a-Si, Gate-SiNx MgO, AlQ3, ITO, PR, CuPc, NPB, PVK, PAF, PEDT-PSS, Oxide, Polyimide... 光学涂层：硬度涂层、增反射薄膜、Color Filters、封装及功能薄膜... 太阳能电池：Doping a-Si(i-type, n-type, p-type), TCO(ZnO, SnO, ITO..) 聚合物： PVA, PET, PP, Dye, Npp, MNA, TAC, PR... Recordable materials: Photosensitive drum, Video head, Photo masks, Optical disk 其他：示波管上的光阻薄膜材料与掩膜板、金属薄膜、激光镜... 返回顶部 |
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