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牛津仪器推出新产品气体注入系统OmniGIS II
2013-07-01 14:50:22作为纳米操控和纳米制造设备的领先供应商，牛津仪器推出新产品气体注入系统OmniGIS II，具有一套革命性的单端口、气体源注入系统(GIS)。该系统可以允许用户在SEM和FIB里构建纳米结构，以达到以前所未有的精度、速度和可用性。
在扫描电镜或聚焦离子束样品室中，气体注入系统(GIS)直接在样品上引入了可控制的流动气体方案。气体与显微镜的电子束或离子束相互作用，可以在材料表面进行刻蚀或沉积。应用范围包括样品制备和纳米焊接，以及采用直写式光刻技术建立纳米结构，从而实现无掩模纳米图案。
OmniGIS II，牛津仪器的第二代气体注入系统，具有独特的特性，相比同行业的同类产品，它能使控制水平和准确性达到前所未见的高度。通气口可以自动识别气体源并快速进行气体源更换，同时可以安装三种气体源和另外两种气体。设备采用“流通式”载体的方法能促进高效元素传送并快速处理，并且压力反馈控制会自动调整到大范围真空室压力，以实现高压力下的快速处理或低压力下的高分辨率纳米图案成形。
牛津仪器纳米分析市场总监Del Redfern先生评论道，“自从两年前我们收购了Omniprobe，推出具有技术创新的旗舰产品，在纳米制造市场原有同类产品的性能上有了新的突破。”（来源：牛津仪器）
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