Hakuto 离子蚀刻机 20IBE-C-益择网-专业的仪器网上选购商城

产品描述

上海伯东日本原装进口适合中等规模量产使用的 Hakuto 离子刻蚀机, 样品台可选直接冷却 / 间接冷却

Hakuto 离子蚀刻机 20IBE-C 产品优势：

Hakuto 离子蚀刻机 IBE 主要优点:
1. 干式制程的微细加工装置, 使得在薄膜磁头, 半导体元件, MR sensor 等领域的开发研究及量产得以广泛应用.
2. 物理蚀刻的特性, 无论使用什么材料都可以用来加工, 所以各种领域都可以被广泛应用.
3. 配置使用美国考夫曼离子源
4. 射频角度可以任意调整, 蚀刻可以根据需要做垂直, 斜面等等加工形状.
5. 基板直接加装在直接冷却装置上, 所以可以在低温环境下蚀刻.
6. 配置公转自转传输机构, 使得被蚀刻物可以得到比较均匀平滑的表面.
7. 机台设计使用自动化的操作流程, 所以可以有非常友好的使用生产过程.

Hakuto 离子蚀刻机 20IBE-C 技术参数：

Hakuto 离子蚀刻机 20IBE-C技术参数:

portant;"> φ4 inch X 6片	portant;"> 基板尺寸	portant;"> < Ф3 inch X 8片 < Ф4 inch X 6片 < Ф8 inch X 1片	portant;"> 可选
	portant;"> 样品台	portant;"> 样品台可选直接冷却 / 间接冷却0-90度旋转
	portant;"> 离子源	portant;"> 20cm 考夫曼离子源
	portant;"> 均匀性	portant;"> ±5% for 8”Ф
	portant;"> 硅片刻蚀率	portant;"> 20 nm/min
	portant;"> 温度	portant;"> <100

Hakuto 离子蚀刻机 20IBE-C 组成：

Hakuto 离子蚀刻机 20IBE-C 组成:
NS 离子蚀刻机

Hakuto 离子蚀刻机 20IBE-C 蚀刻速率：

Hakuto 离子蚀刻机通氩气 Ar 不同材料的蚀刻速率:
NS离子蚀刻机

分享到：

Hakuto 离子蚀刻机 20IBE-C

产品描述

Hakuto 离子蚀刻机 20IBE-C 产品优势：

Hakuto 离子蚀刻机 20IBE-C 技术参数：

Hakuto 离子蚀刻机 20IBE-C 组成：

Hakuto 离子蚀刻机 20IBE-C 蚀刻速率：

更多促销产品

更多最新产品