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KRI考夫曼射频离子源RFICP140溅射沉积 BCx 薄膜
2021-02-02 06:34:45 伯东企业（上海）有限公司 发布
伯东 KRI 考夫曼射频离子源 RFICP140 技术参数:
| portant;">
型号 |
portant;">
RFICP140 |
| portant;">
Discharge |
portant;">
RFICP 射频 |
| portant;">
离子束流 |
portant;">
>600 mA |
| portant;">
离子动能 |
portant;">
100-1200 V |
| portant;">
栅极直径 |
portant;">
14 cm Φ |
| portant;">
离子束 |
portant;">
聚焦, 平行, 散射 |
| portant;">
流量 |
portant;">
5-30 sccm |
| portant;">
通气 |
portant;">
Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他 |
| portant;">
典型压力 |
portant;">
< 0.5m Torr |
| portant;">
长度 |
portant;">
24.6 cm |
| portant;">
直径 |
portant;">
24.6 cm |
| portant;">
中和器 |
portant;">
LFN 2000 |
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试验结论:
相同的沉积时间内, BCx 薄膜的厚度随石墨靶电流的增加逐渐增大, 硬度、弹性模量逐渐降低,微观形貌的柱状结构特征越来越明显;增加石墨靶电流可以提高BCx薄膜的摩擦学性能, 当石墨靶电流为 2.4A 时, BCx 薄膜的摩擦因数稳定在 0.2 左右, 且具有最佳的耐磨性能。
KRI 离子源的独特功能实现了更好的性能, 增强的可靠性和新颖的材料工艺. KRI 离子源
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