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考夫曼射频离子源RFICP380用于铝表面溅射沉积ZrN薄膜
2021-02-02 06:41:53 伯东企业（上海）有限公司 发布
KRI 射频离子源 RFICP380 技术参数:
| portant;">
射频离子源型号 |
portant;">
RFICP380 |
| portant;">
Discharge 阳极 |
portant;">
射频 RFICP |
| portant;">
离子束流 |
portant;">
>1500 mA |
| portant;">
离子动能 |
portant;">
100-1200 V |
| portant;">
栅极直径 |
portant;">
30 cm Φ |
| portant;">
离子束 |
portant;">
聚焦, 平行, 散射 |
| portant;">
流量 |
portant;">
15-50 sccm |
| portant;">
通气 |
portant;">
Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他 |
| portant;">
典型压力 |
portant;">
< 0.5m Torr |
| portant;">
长度 |
portant;">
39 cm |
| portant;">
直径 |
portant;">
59 cm |
| portant;">
中和器 |
portant;">
LFN 2000 |
KRI 离子源的独特功能实现了更好的性能, 增强的可靠性和新颖的材料工艺. KRI 离子源已经获得了理想的薄膜和表面特性, 而这些特性在不使用 KRI 离子源技术的情况下是无法实现的.
试验结论:
随着磁控溅射时间的增长, 薄膜的亮度在减少, 黄蓝值在 3 min时出现最大值, 说明镀膜时间在 3 min 时最接近黄色, 红绿值波动比较大; 而氮气流量在 13~18 sccm 内, 薄膜颜色呈金黄色.
伯东是德国 Pfeiffer 真空泵, 检漏仪, 质谱仪, 真空计, 美国 KRI 考夫曼离子源, 美国HVA 真空阀门
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