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KRI考夫曼射频离子源RFICP140应用AlTiN涂层研究
2021-02-02 06:44:23 伯东企业（上海）有限公司 发布
伯东 KRI 考夫曼射频离子源 RFICP140 技术参数:
| portant;">
型号 |
portant;">
RFICP140 |
| portant;">
Discharge |
portant;">
RFICP 射频 |
| portant;">
离子束流 |
portant;">
>600 mA |
| portant;">
离子动能 |
portant;">
100-1200 V |
| portant;">
栅极直径 |
portant;">
14 cm Φ |
| portant;">
离子束 |
portant;">
聚焦, 平行, 散射 |
| portant;">
流量 |
portant;">
5-30 sccm |
| portant;">
通气 |
portant;">
Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他 |
| portant;">
典型压力 |
portant;">
< 0.5m Torr |
| portant;">
长度 |
portant;">
24.6 cm |
| portant;">
直径 |
portant;">
24.6 cm |
| portant;">
中和器 |
portant;">
LFN 2000 |
AlTiN 涂层具有高抗氧化性, 良好热硬性, 摩擦系数低, 与基体之间结合力强, 耐磨性强等优点. 因此AlTiN涂层在机械加工行业,尤其是在刀具领域,一直是研究的热点.
KRI 离子源的独特功能实现了更好的性能, 增强的可靠性和新颖的材料工艺. KRI 离子源已经获得了理想的薄膜和表面特性, 而这些特性在不使用 KRI 离子源技术的情况下是无法实现的.
KRI 离子源是领域公认的领导者, 已获得许多专利. KRI 离子源已应用于许多已成为行业标准的过程中.
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