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考夫曼射频离子源RFICP220溅射制备类金刚石Ta-C涂层
2021-02-02 06:46:02 伯东企业（上海）有限公司 发布
KRI 射频离子源 RFICP380 技术参数:
| portant;">
射频离子源型号 |
portant;">
RFICP380 |
| portant;">
Discharge 阳极 |
portant;">
射频 RFICP |
| portant;">
离子束流 |
portant;">
>1500 mA |
| portant;">
离子动能 |
portant;">
100-1200 V |
| portant;">
栅极直径 |
portant;">
30 cm Φ |
| portant;">
离子束 |
portant;">
聚焦, 平行, 散射 |
| portant;">
流量 |
portant;">
15-50 sccm |
| portant;">
通气 |
portant;">
Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他 |
| portant;">
典型压力 |
portant;">
< 0.5m Torr |
| portant;">
长度 |
portant;">
39 cm |
| portant;">
直径 |
portant;">
59 cm |
| portant;">
中和器 |
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LFN 2000 |
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该实验以 99.9% 纯度 Ti 靶和纯度石墨靶为原材料, 通过离子溅射技术在硬质合金表面制备 Ta-C涂层.
研究结果:
石墨靶溅射时间 55min 时制备的 Ta-C涂层综合性能较优, 涂层摩擦系数较低达到 0.13, 对膜副表面形成了石墨转移膜, 对 Ta-C 涂层起到润滑作用.
伯东是德国 Pfeiffer 真空泵, 检漏仪, 质谱仪, 真空计, 美国 KRI 考夫曼离子源, 美国HVA 真空阀门, 美国 inTEST 高低温冲击测试机, 美国 Ambrell 感应加热设备和日本 NS 离子蚀刻机等进口知名品牌的指定代理商
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