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KRI霍尔离子源EH 4200辅助镀膜IBAD用于PC预清洁

2021-02-02 06:50:59  伯东企业(上海)有限公司  发布
  随着科学技术的发展光学镀膜被广泛应用例如玻璃镀膜镜片镀膜显微镜镜片镀膜装饰灯罩镀膜但镀膜制程中比较容易出现膜层不均匀或是产品膜层脱落的现象因此离子辅助镀膜 IBAD应运而生.

 

IBAD也叫离子束辅助沉积(lon Beam Assisted Depositon Ion Beam Enhanced Deposition是把离子束注入与气相沉积镀膜技术相结合的复合表面离子处理技术也是离子束表面处理优化的新技术.

 

这种复合沉积技术是在离子注入材料表面改性过程中使膜与基体在界面上由注入离子引发的级联碰撞造成混合产生过渡层而牢固结合因此在沉积薄膜的同时进行离子束轰击便应运而生因此它是离子束改性技术的重要发展也是离子注入与镀膜技术相结合的表面复合离子处理新技术在材料的腐蚀防护装饰等方面获得工业应用.

 

伯东美国 KRI考夫曼离子源可以辅助可以有效镀膜 IBAD用于预清洁 PC可以有效防止出现膜层不均匀从而防止产品膜层脱落的现象因此美国 KRI 考夫曼霍尔型离子源广泛加装在各类蒸发镀膜机中.

 

离子源辅助镀膜客户案例一厦门某光学镀膜企业该企业使用日本 Shincron 真空镀膜机镀膜腔体约 2 m3镀膜机加装 KRI 霍尔离子源 EH 4200 起到预清洁 PC及辅助镀膜 IBAD 的作用.



离子源辅助镀膜具体操作霍尔离子源预清洁 PC +辅助镀膜 IBAD: 由于膜层表面很光滑,在镀膜时会产生膜层脱落现象预清洁就是将膜层表面用大的离子如 Ar 打击表面使得制程物能有效的吸附在表面上加装KRI霍尔离子源起到预清洁作用在预清洁后开启离子源辅助镀膜 IBAD, 膜层厚度均匀性及附着牢固度都明显提高.


工作示意图如下, KRI离子源覆盖面


使用专业测膜记号笔可以明显看出加装 KRI 离子源前后有很大的不同

 

KRI 霍尔离子源 Gridless eH 系列主要应用

1.辅助镀膜 IBAD

2.溅镀&蒸镀 PC

3.表面改性激活 SM

4.沉积 (DD)

5.离子蚀刻 LIBE

6.光学镀膜

7.Biased target ion beam sputter deposition (BTIBSD)

8.Ion Beam Modification of Material Properties (IBM)

例如

1. 离子辅助镀膜及电子*****蒸镀

2. 线上式磁控溅射及蒸镀设备预清洗

3. 表面处理

4. 表面硬化层镀膜

5. 磁控溅射辅助镀膜

7. 偏压离子束磁控溅射镀膜 

 

伯东是德国 Pfeiffer 真空泵检漏仪质谱仪真空计美国 KRI 考夫曼离子源美国 inTEST 高低温冲击测试机美国 Ambrell 感应加热设备和日本 NS 离子蚀刻机等进口知名品牌的指定代理商.

 

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上海伯东罗先生                               台湾伯东王女士
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