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考夫曼射频离子源RFICP380 在磁控溅射玻璃镀膜中的应用
2021-02-02 07:22:00 伯东企业（上海）有限公司 发布
某国内玻璃制造商采用 KRI 考夫曼平行型射频离子源 RFICP380 离子清洗技术清除沉积在靶面和阳极表面的反应产物, 如氧化物, 从而保持靶和阳极表面导电性, 避免发生”靶中毒”和”阳极消失”现象.
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伯东 KRI 射频离子源 RFICP 380 技术参数：
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portant;">
射频离子源型号 |
portant;">
RFICP 380 |
|
portant;">
Discharge 阳极 |
portant;">
射频 RFICP |
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portant;">
离子束流 |
portant;">
>1500 mA |
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portant;">
离子动能 |
portant;">
100-1200 V |
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portant;">
栅极直径 |
portant;">
30 cm Φ |
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portant;">
离子束 |
portant;">
聚焦, 平行, 散射 |
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portant;">
流量 |
portant;">
15-50 sccm |
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portant;">
通气 |
portant;">
Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他 |
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portant;">
典型压力 |
portant;">
< 0.5m Torr |
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portant;">
长度 |
portant;">
39 cm |
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portant;">
直径 |
portant;">
59 cm |
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portant;">
中和器 |
portant;">
LFN 2000 |
推荐理由：
1. 使用 KRI 考夫曼平行型射频离子源 RFICP 380 可以准确、灵活地对样品选定的区域进行清洗
2. 功率大, 离子束流高, 满足客户工艺要求
3. 清洗速率快
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工作原理:
在真空室充入 100sccm 的氩气, 利用 KRI 考夫曼平行型射频离子源 RFICP380 把氩气电离, 形成离子体, 利用氩离子撞击靶面, 从靶面上撞出锡原子或氧化锡分子, 完成对锡靶的清洁. 撞击出来的锡原子撞击阳极表面, 清除吸附阳极表面与表层铟结合力不强的部分氧化锡分子, 完成对阳极表面的清洗.
其清洗实施工作图如下:
一次清洗大约用时15s, 前5秒主要清洁靶面, 后10秒清洁阳极表面.
运行结果：
有效的清洁阴极靶面和阳极表面, 保持阴极靶面和阳极表面良好的导电性, 避免发生”靶中毒”和”阳极消失”现象
伯东是德国 Pfeiffer 真空泵, 检漏仪, 质谱仪, 真空计, 美国 KRI 考夫曼离子源, 美国HVA 真空阀门, 美国 inTEST 高低温冲击测试机, 美国 Ambrell 感应加热设备和日本 NS 离子蚀刻机等进口知名品牌的指定代理商.
若您需要进一步的了解详细信息或讨论, 请参考以下联络方式:
上海伯东: 罗先生 台湾伯东: 王女士
T: +86-21-5046-1322 T: +886-3-567-9508 ext 161
F: +86-21-5046-1490 F: +886-3-567-0049
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