射频离子源RFICP 380和分子泵组用于溅射沉积Cu薄膜-益择网-专业的仪器网上选购商城

薄膜表面粗糙度与机械零件的配合性质、耐磨性、疲劳强度、接触刚度、振动和噪声等有重要关系, 直接决定机械产品的使用寿命和可靠性. 因此, 某薄膜制造商为了获得优质的 Cu 薄膜, 采用伯东 KRI 射频离子源 RFICP 380 、霍尔离子源 eH 2000 和分子泵组 Hicube 30 Eco 辅助溅射沉积 Cu 薄膜.

该制造商的镀膜机设备采用双离子束溅射沉积系统, 该设备的本底真空为5x10^-5 Pa, 溅射气体使用 Ar⁺ 粒子, 靶材成分为 99.99% Cu, 衬底为硅片.

其双离子束溅射沉积系统工作示意图如下：

其中双离子源中的一个离子源适用于溅射靶材, 另个离子源是用于基材的预清洗.

用于溅射的离子源采用伯东的 KRI 聚焦型射频离子源 380,

伯东 KRI 聚焦型射频离子源 RFICP 380 技术参数：

portant;"> 射频离子源型号	portant;"> RFICP 380
portant;"> Discharge 阳极	portant;"> 射频 RFICP
portant;"> 离子束流	portant;"> >1500 mA
portant;"> 离子动能	portant;"> 100-1200 V
portant;"> 栅极直径	portant;"> 30 cm Φ
portant;"> 离子束	portant;"> 聚焦
portant;"> 流量	portant;"> 15-50 sccm
portant;"> 通气	portant;"> Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他
portant;"> 典型压力	portant;"> < 0.5m Torr
portant;"> 长度	portant;"> 39 cm
portant;"> 直径	portant;"> 59 cm
portant;"> 中和器	portant;"> LFN 2000

推荐理由：

聚焦型溅射离子源一方面可以增加束流密度, 提高溅射率; 另一方面减小离子束的散射面积, 减少散射的离子溅射在靶材以外的地方引起污染

用于预清洗的离子源是采用伯东 KRI 霍尔离子源 Gridless eH 2000

伯东 KRI 霍尔离子源 Gridless eH 2000 技术参数:

portant;"> 离子源型号	portant;"> 霍尔离子源 eH2000
portant;"> Cathode/Neutralizer	portant;"> F or HC
portant;"> 电压	portant;"> 50-300V
portant;"> 电流	portant;"> 10A
portant;"> 散射角度	portant;"> >45°
portant;"> 可充其他	portant;"> Ar, O2, N2, H2, organic precursors, others
portant;"> 气体流量	portant;"> 2-75sccm
portant;"> 高度	portant;"> 4.0“
portant;"> 直径	portant;"> 5.7“
portant;"> 水冷	portant;"> 是

其溅射室需要沉积前本底真空抽到1×10-5Pa, 经推荐采用伯东分子泵组 Hicube 30 Eco, 其技术参数如下：

分子泵组 Hicube 30 Eco 技术参数

portant;"> 泵组型号	portant;"> 进气法兰	portant;"> 分子泵型号	portant;"> 抽速氮气l/s	portant;"> 极限真空 hPa	portant;"> 前级泵型号	portant;"> 前级泵抽速 m³/h
portant;"> Hicube 30 Eco	portant;"> DN 40 ISO-KF	portant;"> Hipace 30	portant;"> 22	portant;"> 1X10-7	portant;"> MVP 030-3	portant;"> 1.8

实际运行结果：

双离子束溅射制备的薄膜由于其他方法生长的薄膜, 薄膜的表面平整度、厚度均匀性更好
绝对沉积角必须要避开 25°附件的位置, 这一位置的粗糙度太大, 生长出的薄膜表面的各方面性质远低于其他位置

伯东是德国 Pfeiffer 真空泵, 检漏仪, 质谱仪, 真空计, 美国 KRI 考夫曼离子源, 美国HVA 真空阀门, 美国 inTEST 高低温冲击测试机, 美国 Ambrell 感应加热设备和日本 NS 离子蚀刻机等进口知名品牌的指定代理商.

若您需要进一步的了解详细信息或讨论, 请参考以下联络方式:

上海伯东: 罗先生                               台湾伯东: 王女士
T: +86-21-5046-1322                 T: +886-3-567-9508 ext 161
F: +86-21-5046-1490                        F: +886-3-567-0049
M: +86 152-0195-1076                   M: +886-939-653-958
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射频离子源RFICP 380和分子泵组用于溅射沉积Cu薄膜

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