伯东KRI考夫曼射频离子源RFICP220辅助 LED 封装
2021-02-02 07:32:34 伯东企业(上海)有限公司 发布
伯东 KRI 考夫曼射频离子源 RFICP220 技术参数:
portant;">
离子源型号 |
portant;">
RFICP220 |
portant;">
Discharge |
portant;">
RFICP 射频 |
portant;">
离子束流 |
portant;">
>800 mA |
portant;">
离子动能 |
portant;">
100-1200 V |
portant;">
栅极直径 |
portant;">
20 cm Φ |
portant;">
离子束 |
portant;">
聚焦, 平行, 散射 |
portant;">
流量 |
portant;">
10-40 sccm |
portant;">
通气 |
portant;">
Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他 |
portant;">
典型压力 |
portant;">
< 0.5m Torr |
portant;">
长度 |
portant;">
30 cm |
portant;">
直径 |
portant;">
41 cm |
portant;">
中和器 |
portant;">
LFN 2000 |
客户清洗的工作流程:
在真空状态下, 利用射频源将氩气电离成高能量的离子去撞击LED上的有机污染物及微颗粒污染物, 从而使得污染物被轰击除掉.
为了避免二次污染, 该清洗工艺, 真空度要求10-7 hPa, 客户采用的是伯东Pfeiffer 涡轮分子泵 HiPace 1800 UC, 该型号可以倒装和抗腐蚀,
伯东 Pfeiffer 涡轮分子泵 HiPace 1800 技术参数:
portant;">
分子泵型号 |
portant;">
接口 DN |
portant;">
抽速 l/s |
portant;">
压缩比 |
portant;">
最高启动压强mbar |
portant;">
极限压力 |
portant;">
全转速气体流量hPa l/s |
portant;">
启动 |
portant;">
重量 |
|||
portant;">
进气 |
portant;">
排气 |
portant;">
氮气 |
portant;">
氦气He |
portant;">
氢气 H2 |
portant;">
氮气 |
portant;">
氮气N2 |
portant;">
hPa |
portant;">
氮气N2 |
portant;">
min |
portant;">
kg |
|
portant;">
Hipace 1800 UC |
portant;">
200 |
portant;">
40 |
portant;">
1,450 |
portant;">
1,650 |
portant;">
1,700 |
portant;">
> 1X108 |
portant;">
1.8 |
portant;">
< 1X10–7 |
portant;">
20 |
portant;">
4 |
portant;">
33 – 34 |
运行结果:
1. 从下图离子射频清洗氧化膜前后对比可以看出, KRI 考夫曼射频离子源 RFICP220 有效的清洗除去污染物
从使用和未使用离子清洗的拉力强度对比, 使用离子清洗后键合引线拉力强度有明显增加
伯东是德国 Pfeiffer 真空泵, 检漏仪, 质谱仪, 真空计, 美国 KRI 考夫曼离子源, 美国HVA 真空阀门, 美国 inTEST 高低温冲击测试机, 美国 Ambrell 感应加热设备和日本 NS 离子蚀刻机等进口知名品牌的指定代理商.
若您需要进一步的了解详细信息或讨论, 请参考以下联络方式:
上海伯东: 罗先生 台湾伯东: 王女士
T: +86-21-5046-1322 T: +886-3-567-9508 ext 161
F: +86-21-5046-1490 F: +886-3-567-0049
M: +86 152-0195-1076 M: +886-939-653-958
ec@hakuto-vacuum.cn ec@hakuto.com.tw
www.hakuto-china.cn www.hakuto-vacuum.com.tw
伯东版权所有, 翻拷必究!
- 网友评论:
- 已有0条评论