伯东KRI考夫曼射频离子源RFICP140辅助镀制OSR膜层
2021-02-02 07:33:00 伯东企业(上海)有限公司 发布
伯东 KRI考夫曼射频离子源 RFICP140 技术参数:
portant;">
型号 |
portant;">
RFICP 140 |
portant;">
Discharge |
portant;">
RFICP 射频 |
portant;">
离子束流 |
portant;">
>600 mA |
portant;">
离子动能 |
portant;">
100-1200 V |
portant;">
栅极直径 |
portant;">
14 cm Φ |
portant;">
离子束 |
portant;">
聚焦, 平行, 散射 |
portant;">
流量 |
portant;">
5-30 sccm |
portant;">
通气 |
portant;">
Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他 |
portant;">
典型压力 |
portant;">
< 0.5m Torr |
portant;">
长度 |
portant;">
24.6 cm |
portant;">
直径 |
portant;">
24.6 cm |
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中和器 |
portant;">
LFN 2000 |
推荐使用 KRI考夫曼射频离子源 RFICP140是因为其束流密度、能量可以精确控制, 工艺刚好符合客户要求.
其工艺流程为:
在原有的真空镀膜机上安装一台KRI考夫曼射频离子源 RFICP140, 产生离子束. 离子束清洗应用在镀膜沉积前, 利用离子束轰击基片, 溅射基片表面的污染物进行净化, 同时也对基片表面除气.
先将清洗干净的石英玻璃基片放入真空室,再将系统的真空度抽至低于 5·10-4Pa, 然后充入工作气体氩气保持 5min 后, 打开离子源进行清洗. 清洗完毕后再次将系统的真空度抽至低于 5·10-4Pa,充入氩气至 0.3Pa 进行溅射镀银.
为了保证真空室的真空度, 客户采用的是伯东Pfeiffer 涡轮分子泵 HiPace1800, 其参数如下:
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分子泵型号 |
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界面 DN |
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抽速 l/s |
portant;">
压缩比 |
portant;">
最高启动压强mbar |
portant;">
极限压力 |
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全转速气体流量hPa l/s |
portant;">
启动 |
portant;">
重量 |
|||
portant;">
进气 |
portant;">
排气 |
portant;">
氮气 |
portant;">
氦气He |
portant;">
氢气 H2 |
portant;">
氮气 |
portant;">
氮气N2 |
portant;">
hPa |
portant;">
氮气N2 |
portant;">
min |
portant;">
kg |
|
portant;">
Hipace 1800 |
portant;">
200 |
portant;">
40 |
portant;">
1,450 |
portant;">
1,650 |
portant;">
1,700 |
portant;">
> 1X108 |
portant;">
1.8 |
portant;">
< 1X10–7 |
portant;">
20 |
portant;">
4 |
portant;">
33 – 34 |
运行结果:
KRI考夫曼射频离子源 RFICP140可以对基片表面进行有效的清洁、活化的, 有利于改善膜层附着力
伯东是德国 Pfeiffer 真空泵, 检漏仪, 质谱仪, 真空计, 美国 KRI 考夫曼离子源, 美国HVA 真空阀门, 美国 inTEST 高低温冲击测试机, 美国 Ambrell 感应加热设备和日本 NS 离子蚀刻机等进口知名品牌的指定代理商.
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