考夫曼射频离子源FRICP380辅助溅射镀制Al2O3薄膜
2021-02-02 07:53:00 伯东企业(上海)有限公司 发布氧化物薄膜具有优越的机械、光学性能以及良好的环境稳定性, 被广泛应用于可见近红外波段制备各种低损耗光学薄膜.
某国内精密光学薄膜制造商为了获得品质良好的Al2O3 薄膜, 采用伯东 KRI 考夫曼射频离子源 FRICP380 和考夫曼离子源 KDC100 辅助溅射镀制 Al2O3 薄膜.
伯东 KRI 射频离子源 RFICP380 技术参数:
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射频离子源型号 |
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RFICP380 |
portant;">
Discharge 阳极 |
portant;">
射频 RFICP |
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离子束流 |
portant;">
>1500 mA |
portant;">
离子动能 |
portant;">
100-1200 V |
portant;">
栅极直径 |
portant;">
30 cm Φ |
portant;">
离子束 |
portant;">
聚焦, 平行, 散射 |
portant;">
流量 |
portant;">
15-50 sccm |
portant;">
通气 |
portant;">
Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他 |
portant;">
典型压力 |
portant;">
< 0.5m Torr |
portant;">
长度 |
portant;">
39 cm |
portant;">
直径 |
portant;">
59 cm |
portant;">
中和器 |
portant;">
LFN 2000 |
工艺简介:
该制造商采用双离子辅助镀制 Al2O3 薄膜, 其中一个离子源(KRI 考夫曼射频离子源 FRICP380)主要是用于产生高能氩离子束轰击靶材, 通过动量传递使靶材原子获得足够的动能而脱离靶材表面, 射向基板, 在基板的上沉积而形成一层薄膜;
另一个辅助离子源(KRI 考夫曼离子源 KDC100)通入氧气和氩气的混合气体, 通过对生长中的薄膜的轰击, 使得薄膜进一步致密, 同时改善薄膜的化学计量比.
伯东美国 KRI 考夫曼离子源 KDC 100 技术参数:
portant;">
离子源型号 |
portant;">
离子源 KDC 100 |
portant;">
Discharge |
portant;">
DC 热离子 |
portant;">
离子束流 |
portant;">
>400 mA |
portant;">
离子动能 |
portant;">
100-1200 V |
portant;">
栅极直径 |
portant;">
12 cm Φ |
portant;">
离子束 |
portant;">
聚焦, 平行, 散射 |
portant;">
流量 |
portant;">
2-20 sccm |
portant;">
通气 |
portant;">
Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他 |
portant;">
典型压力 |
portant;">
< 0.5m Torr |
portant;">
长度 |
portant;">
23.5 cm |
portant;">
直径 |
portant;">
19.4 cm |
portant;">
中和器 |
portant;">
灯丝 |
* 可选: 可调角度的支架
其工作示意图如下:
运行结果:
1. 制备的薄膜在中红外波段具有高的折射率和低的消光系数, 光滑的表面特性和极低的表面散射耗损, 在2.7μm波段没有发现由于水吸收导致的消光系数的增大;
2. 制备的反射膜在2.7 μm反射率达到了99.63%, 接近于理论计算值;
3. 镀制的Al2O3 薄膜具有优良的环境稳定性.
伯东是德国 Pfeiffer 真空泵, 检漏仪, 质谱仪, 真空计, 美国 KRI 考夫曼离子源, 美国HVA 真空阀门, 美国 inTEST 高低温冲击测试机, 美国 Ambrell 感应加热设备和日本 NS 离子蚀刻机等进口知名品牌的指定代理商.
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