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KRI考夫曼离子源RFCIP220辅助溅射制备LaF3薄膜

2021-02-02 08:00:56  伯东企业(上海)有限公司  发布
  某光学薄膜制造商采用20cm 的溅射源为 KRI 考夫曼射频离子源 RFICP220 辅助溅射制备 LaF3 薄膜

 

伯东 KRI 射频离子源 RFICP220 技术参数:

portant;">

离子源型号

portant;">

RFICP220

portant;">

Discharge

portant;">

RFICP 射频

portant;">

离子束流

portant;">

>800 mA

portant;">

离子动能

portant;">

100-1200 V

portant;">

栅极直径

portant;">

20 cm Φ

portant;">

离子束

portant;">

聚焦平行散射

portant;">

流量

portant;">

10-40 sccm

portant;">

通气

portant;">

Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他

portant;">

典型压力

portant;">

< 0.5m Torr

portant;">

长度

portant;">

30 cm

portant;">

直径

portant;">

41 cm

portant;">

中和器

portant;">

LFN 2000

可选灯丝中和器可变长度的增量

KRI 射频离子源 RFICP 220

运行结果:

1. 采用 KRI 考夫曼射频离子源 RFICP220 镀制的 LaF3 薄膜折射率更高且不存在折射率的梯度分布

2. 制备的 LaF3薄膜的环境稳定性更高

3. 离子源溅射制备的减反膜透过率为99.2%反射率为 0.1%表现了较好的光学特性

 

伯东是德国 Pfeiffer 真空泵检漏仪质谱仪真空计美国 KRI 考夫曼离子源美国HVA 真空阀门美国 inTEST 高低温冲击测试机美国 Ambrell 感应加热设备和日本 NS 离子蚀刻机等进口知名品牌的指定代理商.

 

若您需要进一步的了解详细信息或讨论请参考以下联络方式:

上海伯东罗先生                               台湾伯东王女士
T: +86-21-5046-1322                   T: +886-3-567-9508 ext 161
F: +86-21-5046-1490                        F: +886-3-567-0049
M: +86 152-0195-1076                     M: +886-939-653-958
ec@hakuto-vacuum.cn                      ec@hakuto.com.tw
www.hakuto-china.cn                    www.hakuto-vacuum.com.tw

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