Hakuto 离子蚀刻机 20IBE-J 应用于硬盘 GMR 磁头
2021-05-14 11:28:40 伯东企业(上海)有限公司 发布硬盘磁头, 是硬盘读取数据的关键部件, 磁头的好坏在很大程度上决定着硬盘盘片的存储密度.
GMR 磁头的使用了磁阻效应更好的材料和多层薄膜结构, 这比以前的传统磁头和MR(Magneto Resisive)磁阻磁头更为敏感, 相对的磁场变化能引起来大的电阻值变化, 从而实现更高的存储密度.
某硬盘磁头制造商采用伯东 Hakuto 离子蚀刻机 20IBE-J 应用于硬盘磁头镀制GMR磁头导电材料和磁性材料薄膜构.
Hakuto 离子蚀刻机 20IBE-J 技术参数
Φ4 inch X 12片 |
基片尺寸 |
Φ4 inch X 12片 Φ5 inch X 10片 Φ6 inch X 8片 |
均匀性 |
±5% |
|
硅片刻蚀率 |
20 nm/min |
|
样品台 |
直接冷却,水冷 |
|
离子源 |
Φ20cm 考夫曼离子源 |
Hakuto 离子刻蚀机 20IBE-J 的核心构件离子源采用的是伯东公司代理美国 考夫曼博士创立的 KRI考夫曼公司的射频离子源 RFICP220
伯东 KRI 射频离子源 RFICP 220 技术参数:
离子源型号 |
RFICP 220 |
Discharge |
RFICP 射频 |
离子束流 |
>800 mA |
离子动能 |
100-1200 V |
栅极直径 |
20 cm Φ |
离子束 |
聚焦, 平行, 散射 |
流量 |
10-40 sccm |
通气 |
Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他 |
典型压力 |
< 0.5m Torr |
长度 |
30 cm |
直径 |
41 cm |
中和器 |
LFN 2000 |
* 可选: 灯丝中和器; 可变长度的增量
Hakuto 离子刻蚀机 20IBE-J 的样品台可以 0-90 度旋转, 实现 GMR 磁头均匀地接受离子的轰击, 进而实现提高 GMR 磁头的加工质量.
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