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Pfeiffer 涡轮分子泵应用于激光分子束外延系统 Lazer MBE
激光分子束外延 Lazer MBE 是一种晶体生长技术, 将半导体衬底放置在超高真空腔体中, 和将需要生长的单晶物质按元素的不同分别放在喷射炉中, 由分别加热到相应温度的各元素喷射出的分子流能在衬底上生长出极薄的. 可薄至单原子层水平, 单晶体和几种物质交替的超晶格结构. 分子束外延主要研究的是不同结构或不同材料的晶体和超晶格的生长, 该方法生长温度低, 能严格控制外延层的层厚组分和掺杂浓度.

分子束外延系统需要高真空环境!
外延系统中的超高真空腔体对真空度要求及其高, 对真空腔体的密封性, 材料放气率, 微量杂质气体和水蒸气比较敏感,德国 Pfeiffer 分子泵可提供稳定的真空环境, 对晶格的生长起到良好的作用

上海伯东激光分子束外延 Lazer MBE 客户案例一: 某真空设备商采购 Pfeiffer 涡轮分子泵 HiPace 400, HiPace 80 用于激光分子束外延系统, 系统功能
1. 主要针对金属薄膜及材料器件的氧化物外延生长
2. 超高真空生长室, 直径 12英寸.
3. 额定基压：<1x10-6 Torr
4. 配有12个加热泄流源.
5. 衬底加热器加热温度 950℃
6. 可放置 6个1"的靶及 3个2"的靶
7. 质量流量计控制进入真空腔的流量, 量程 100sccm.
8. 线型进样室实现全自动送片
涡轮分子泵应用于激光分子束外延 Lazer MBE
分子束外延超高真空系统配置

	涡轮分子泵 HiPace 400 接口: DN 100 CF-F 极限真空: < 5X10-10 mbar 氮气压缩比: > 1X1011 抽速: 355 l/s
	涡轮分子泵 HiPace 80 接口: DN 63 CF-F 极限真空: < 5X10-10 mbar 氮气压缩比: > 1X1011 抽速: 67 l/s
	隔膜泵 MVP 020 口径: DN 8+G1/8” 极限真空: 3 mbar 抽速: 1.2 m3/h

Pfeiffer 涡轮分子泵抽速范围 10 至 2700 L/S, 转速最高 90,000 rpm, 极限真空最大 1E-11 mbar, 对小分子气体具有更高的压缩比, 实践证明 Pfeiffer 涡轮分子泵运行时间可以达到 100,000 小时! 普发分子泵提供复合轴承分子泵和五轴全磁浮分子泵二大系列满足不同应用, 推荐搭配 Pfeiffer 旋片泵和干泵共同使用. 更多分子泵典型应用 >>

若您需要进一步的了解详细产品信息或讨论 , 请参考以下联络方式 :

上海伯东 : 罗先生                               台湾伯东 : 王小姐
T: +86-21-5046-1322                 T: +886-3-567-9508 ext 161
F: +86-21-5046-1490                        F: +886-3-567-0049
M: +86 152-0195-1076                   M: +886-939-653-958
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