靶基距对脉冲激光沉积CNｘ薄膜微结构和摩擦学性能的影响-益择网-专业的仪器网上选购商城

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用脉冲激光沉积法制备CN_x靶材在氮气中进行烧蚀，在不同靶基距下制备了CN_x薄膜。用扫描电子显微镜（SEM）、Ｘ射线光电子谱（XPS）和Raman谱等对薄膜的表面形貌、化学成分以及元素化学状态进行了表征。用球盘式微型摩擦磨损试验仪测试了薄膜在大气中的摩擦学特性。结果表明：随着靶基距增大到45mm时，CN_x薄膜中的含氮量（原子数分数）上升至23.9%，有利于sp3 C-C键和N-sp3 C键的形成。
当靶基距从45mm增大至51mm时，薄膜的含氮量下降至15.5%，薄膜中sp3 C-N键和N-sp3 C键的相对原子数分数亦随之减少，薄膜中的sp2 C -C键的相对原子数分数从45.2%增加至55.9%，磨损率从4.3×10-15m³／Nm上升至3.1×10－14m³／Nm。CN_x薄膜的平均摩擦因数随着靶基距的增大从0.25下降到0.18。

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